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  • 無錫*高低溫體機-10℃~200℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。無錫*高低溫體機-10℃~200℃

    更新時間:2024-12-27

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  • 加熱冷卻循環(huán)裝置-10℃~200℃實驗室生產(chǎn)使用

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱冷卻循環(huán)裝置-10℃~200℃實驗室生產(chǎn)使用

    更新時間:2024-12-27

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  • 智能密閉制冷加熱循環(huán)設備-10℃~200℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。智能密閉制冷加熱循環(huán)設備-10℃~200℃

    更新時間:2024-12-27

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  • 高低溫循環(huán)設備-10℃~200℃觸摸屏顯示

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環(huán)設備-10℃~200℃觸摸屏顯示

    更新時間:2024-12-27

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  • 曲線控溫智能高低溫體機-10℃ ~ 200℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。曲線控溫智能高低溫體機-10℃ ~ 200℃

    更新時間:2024-12-27

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  • 高低溫體機-10℃ ~ 200℃實驗室使用性能

    【無錫冠亞】制冷加熱控溫系統(tǒng)應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。高低溫體機-10℃ ~ 200℃實驗室使用性能介紹

    更新時間:2025-12-03

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